新质料作为高新技术的先导和基石，是"发现之母"和"工业粮食"，更是国家科技水平前瞻性指标。现在我国新质料工业规模、技术水平、生长机制等方面与外洋仍存在较大差距。我国新质料的入口率高达86%，自给率仅14%；化工新质料工业海内保障能力只有50%；用量较大的工程塑料和特种橡胶自给率仅30%；高端高温合金主要要依赖入口；……新质料工业国产化需求迫切，具有技术优势的国产替代质料将获得未来市场，入口替代仍将是未来一段时间新质料投资的主要逻辑。

新质料在线®针对我国重点应用领域急需的新质料工业情况举行了研究与分析，整理了50+种高度依赖入口的新质料清单：表1 高度依赖入口的新质料清单 Source：新质料在线®半导体和显示行业的焦点质料、器件、设备险些全部依赖入口。对于本土投资者、创业者来说，这是一次凤凰涅槃的庞大时机。数据显示，半导体质料国产化率普遍偏低，入口替代空间庞大。

表2 半导体质料入口替代市场数据 Source：公然资料整理以下为半导体及显示行业10大高度依赖入口的关键质料分析：一、大硅片Source：图虫创意硅片也称硅晶圆，是制造半导体芯片最重要的基本质料，其最主要的原料为单晶硅。硅片直径越大，其所能刻制的集成电路则越多，芯片的成本也随之降低。大尺寸硅片对技术的要求很高，良品率极低，企业进入壁垒极高，全球大硅片市场形成寡头垄断的竞争格式。

现在中国大陆自主生产的硅片以6英寸（150mm）为主，产物主要应用领域仍然是光伏和低端分立器件制造，8英寸（200mm）和12英寸（300mm）的大尺寸集成电路级硅片依然严重依赖入口。▉ 全球大硅片工业竞争格式 ▉集成电路用硅片是制造技术门槛极高的尖端高科技产物，全球只有约莫10家企业能够制造，市场基本被日韩厂商垄断。表3 全球知名大硅片制造企业竞争格式及主营产物 Source：公然资料整理▉ 海内大硅片知名企业结构 ▉表4 2018年中国大尺寸硅片在建产能 Source：前瞻工业研究院二、光刻胶Source：新质料在线®光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键质料之一，其成本约占整个芯片制造工艺的30%，泯灭时间约占整个芯片制造工艺的40%-60%，是半导体制造中最焦点的工艺。现在海内光刻胶自给率仅10%，主要集中于技术含量相对较低的PCB领域。

6英寸硅片的g/i线光刻胶的自给率约为20%，8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%，12寸硅片的ArF光刻胶现在尚无海内企业可以大规模生产。▉ 全球光刻胶工业竞争格式 ▉表5 全球光刻胶知名企业竞争格式 Source：公然资料整理▉ 海内光刻胶知名企业 ▉表6 光刻胶海内化情况 Source：工业信息网、国海证券研究院三、偏光片Source：图虫创意偏光片是一种可以使天然光酿成偏振光的光学元件，是制造液晶显示屏的必备部件，主要由PVA膜、TAC膜、压敏胶、离型膜和掩护膜等复合而成。偏光片最焦点的原质料是 PVA 膜和 TAC 膜，焦点膜材 PVA 卖力偏振作用，TAC 膜则起到对延伸的 PVA 膜的支撑和掩护，二者约占总成本的 60%~70%。

现在，两种膜材的主要供应商均为日韩企业。▉ 全球偏光片工业竞争格式 ▉表7 全球知名偏光片企业业务一览 Source：公然资料整理▉ 海内偏光片知名企业 ▉表8 海内现有及建设中偏光片产能 Source：民生证券研究院四、OLED发光质料Source：图虫创意OLED质料主要包罗两部门：发光质料和基础质料。

OLED发光质料主要包罗红光主体／客体质料、绿光主体／客体质料、蓝光主体／客体质料等，OLED显示技术实现自发光的基础。现在，OLED发光质料中的最焦点发光质料具有较高的专利壁垒，主要被韩日德美企业所掌控，海内企业主要从事OLED 中间体和单体粗品生产。

▉ 全球OLED发光质料工业竞争格式 ▉表9 全球OLED发光质料主要代表厂商 Source：公然资料整理▉ 海内OLED发光质料知名企业 ▉表10 海内OLED厂商产物情况 Source：公然资料整理五、精致金属掩模板Source：新质料在线®精致金属掩膜版（Fine Metal Mask，简称FMM）是OLED蒸镀工艺中的消耗性焦点零部件，主要质料是金属或金属+树脂。其主要作用是在OLED生产历程中沉积RGB有机物质并形成像素，在需要的地方准确和精致地沉积有机物质，提高分辨率和良率。如果需要制造高精度FMM，就需要更高级的INVAR合金（Super INVAR alloy）。

现在市面上唯一能提供满足FMM使用要求的Super INVAR alloy合金厂商是Hitachi Metals。现在海内FMM质料处于初始研发阶段，并不具备量产条件。表11 FMM工业链竞争格式 Source：OLED industry六、湿电子化学品Source：图虫创意湿电子化学品指为微电子、光电子湿法工艺(主要包罗湿法刻蚀、湿法清洗)制程中使用的种种电子化工质料，是集成电路工艺制程中的关键性基础化工质料。差别线宽的集成电路制程工艺中必须使用差别规格的超净高纯试剂举行蚀刻和清洗，其关键生产技术包罗混配技术、分散技术、纯化技术以及与其生产相配套的分析磨练技术、情况处置惩罚与监测技术等、包装技术等。

在半导体湿化学品供应商方面，市场份额主要掌握在西欧、日本、韩国等国家的企业手中，高端产物市场依赖入口。▉ 全球湿电子化学品工业竞争格式 ▉在半导体湿化学品供应商方面，市场份额主要掌握在西欧、日本、韩国等国家的企业手中，包罗德国巴斯夫，美国亚什兰化学、Arch 化学，日本关东化学、三菱化学、京都化工、住友化学、和光纯药工业，台湾鑫林科技，韩国东友精致化工等，上述公司占全球市场份额的85%以上。表12 全球湿电子化学品主要生产企业 Source：公然资料整理▉ 海内湿电子化学品知名企业 ▉湿电子化学品领域与外洋尚有较大差距，高端市场主要集中在美、日、欧等少数大厂商手中，好比在对电子化学品纯度品级要求较高的半导体宁静板显示领域，我海内资企业市场占有率仅到达 25%左右。

表13海内湿电子化学品知名企业 Source：公然资料整理七、电子特种气体Source：图虫创意电子气体是指用于半导体及相关电子产物生产的特种气体，被广泛应用于国防军事、航空航天、新型太阳能电池、电子产物等领域，是电子工业体系的焦点关键原质料之一，市场准入条件高。其行业技术壁垒在于从生产到分散提纯以及运输供应阶段，一直受到西欧蓬勃国家的技术封锁。

电子特种气体行业集中度高，美电子特种气体行业集中度高，美国气体化工、美国普莱克斯、法国液化空气、日本大阳日酸株式会社和德国林德团体五家公司垄断全球特种气体91%的市场份额。海内企业主要集中在中低端市场。▉ 全球电子特种气体工业竞争格式 ▉表14 全球电子特种气体知名企业 Source：semi▉ 海内电子特种气体知名企业 ▉表15 海内电子特种气体知名企业 Source：公然资料整理八、高纯溅射靶材Source：图虫创意使用离子源发生的离子轰击固体外貌，使固体外貌的原子脱离固体并沉积在基底外貌，被轰击的固体称为溅射靶材, 是集成电路制造历程中的关键质料，凭据应用领域，分为半导体靶材、面板靶材、光伏靶材等。高纯溅射靶材制造环节技术门槛高、设备投资大，在溅射靶材工业链各环节的企业数量出现金字塔型漫衍，半导体溅射靶材行业集中度很高，前五大厂商占比凌驾80%。

具有规模化生产能力的企业数量相对较少，主要漫衍在美国、日本等国家和地域。▉ 全球靶材工业企业竞争格式 ▉表16 全球靶材知名企业 Source：公然资料整理▉ 海内靶材知名上市企业 ▉表17 海内靶材知名上市公司 Source：公然资料整理九、化学机械抛光（CMP）质料Source：新质料在线®化学机械抛光（CMP）是集成电路制造历程中实现晶圆全局匀称平坦化的关键工艺，是通过化学作用和机械研磨的组合技术来实现晶圆外貌微米/纳米级差别质料的去除，从而到达晶圆外貌的高度（纳米级）平坦化效应。抛光质料是 CMP 工艺历程中必不行少的耗材，具有技术壁垒高，客户认证时间长的特点，一直以来处于寡头垄断的格式。

凭据功效的差别，抛光质料可划分为抛光垫、抛光液、调治器、以及清洁剂等，主要以抛光液和抛光垫为主。全球芯片抛光液市场主要被在美国、日本、韩国企业所垄断。全球 CMP 抛光垫险些全部被陶氏所垄断，占据80%的市场。

▉ 全球CMP质料工业竞争格式 ▉全球芯片抛光液市场主要被美国、日本、韩国等企业垄断，占全球高端市场份额90%以上。CMP抛光垫方面，陶氏杜邦占79%的市场份额。表18 全球抛光质料知名企业 Source：公然资料整理▉ 海内CMP质料知名企业 ▉抛光液方面，现在中国在不锈钢、铝、钨等中低端领域抛光液基本实现国产化。安集微电子率先在高品质抛光液技术方面打破外洋垄断，进入晶圆抛光液领域。

抛光垫方面，中国企业在高端抛光垫市场险些属于空缺，近年来鼎龙股份逐步取得突破。表19 海内抛光质料知名企业 Source：公然资料整理十、碳化硅单晶Source：图虫创意碳化硅功率半导体工业链主要包罗单晶质料、外延质料、器件、模块和应用这几个环节。

碳化硅单晶是碳化硅功率半导体技术和工业的基础，质量、大尺寸的碳化硅单晶质料是碳化硅技术生长首要解决的问题，连续增大晶圆尺寸、降低缺陷密度（微管、位错、层错等）是其重点生长偏向。碳化硅单晶质料主要有导通型衬底和半绝缘衬底两种, 是第三代半导体质料技术成熟度最高的质料，现在基本被外洋企业垄断。

高导通型衬底质料是制造碳化硅功率半导体器件的基材。半绝缘衬底具备高电阻的同时可以蒙受更高的频率，因此在5G通讯和新一代智能互联，传感感应器件上具备辽阔的应用空间。▉ 全球氮化硅单晶工业竞争格式 ▉表20 全球碳化硅单晶知名企业 Source：公然资料整理▉ 海内氮化硅单晶知名企业 ▉海内主要碳化硅单晶衬底质料企业和研发机构已经具备了成熟的4英寸零微管碳化硅单晶产物，并已经研发出了6英寸单晶样品，可是在晶体质料质量和工业化能力方面距离国际先进水平存在一定差距。

表21 海内碳化硅单晶知名企业 Source：公然资料整理......点击相识更多，检察更多相关资讯。

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